在如今半导体技术飞速发展的背景下，良率一直是芯片制造厂商们关注的核心指标。为了破解先进制程中的难题，颇尔公司把目光投向了过滤技术。在SEMICON China展会上，颇尔发布了四款先进制程产品，分别是XpressKleen® 1nm过滤器、Gaskleen® 1.5nm过滤器、UCA 30nm过滤器和Nylon high-flow 2nm过滤器。这些产品不仅提升了过滤精度，还给客户带来了更高的设备利用率和生产效率。 回顾历史，颇尔公司在1946年成立之初就把目光投向了航空航天领域。随着时间推移，公司逐渐涉足微电子领域，并形成了四大核心技术解决方案：气体纯化、光刻过滤、湿法工艺过滤和CMP过滤。这些解决方案覆盖了制造过程中的薄弱环节，为客户提供了全方位的保障。 陈磊是颇尔中国微电子事业部负责人，他提到八十年的积累让公司掌握了亚纳米级过滤技术。这个技术不仅能有效控制污染，还能守护客户的良率。尤其在3D NAND百层堆叠工艺中，湿法清洗成为防止缺陷累积的最后防线。 陈磊认为，未来摩尔定律仍在推进，公司要持续研发更高阶亚纳米产品。同时还要布局智能化监测和绿色材料等方向。对于AI领域的HBM先进存储需求，公司专注于极致洁净要求，并协同开发分级过滤方案。 为了满足亚太地区客户的需求，颇尔把北京、日本和新加坡三个工厂打造成供应链“铁三角”。北京工厂自1993年建立以来一直聚焦于气体过滤与CMP产品生产。日本和新加坡工厂则承接光刻与湿法工艺产品线生产。这样的产能布局确保了技术共生与产能互备。 进入中国三十年以来，颇尔从提供标准化产品升级为“本地创新、服务本地”的模式。通过“In Region, for Region”战略，公司把中国定位为创新源头。依托CIP客户改进项目和SLS全链条服务团队深入客户痛点提供定制化解决方案。 面对AI与先进制程双重挑战时，颇尔将继续以精密过滤技术坚守“纯净守护者”的角色。八十年间公司从实验室起步成长为全球领军者得益于持续技术投入与对行业需求深度理解。 这个话题讨论给人们一个启示：要想在激烈的竞争中胜出不仅要有先进技术更要专注于客户需求并持续创新！