荷兰Insinger Gilissen公司的分析师Jos Versteeg在2025年10月接受采访时表示，中国至少还需要5年的时间，才能勉强赶上ASML的DUV光刻机技术。ASML的中国营收占比在2024年高达36%，但在2025年下降到了20%左右。为了应对出口管制，中国工信部已经开始在半导体设备领域推广国产化。ASML的CEO彼得·温宁克曾指出，美国对中国的出口管制主要是意识形态方面的。2024年9月，中国工信部将国产氟化氩干式光刻机纳入重大装备推广目录，这种光刻机的分辨率达到了65纳米以下，套刻精度也控制在8纳米以内。2025年7月14日，舜宇奥来在上海临港基地搬进了首台核心设备，并与国有投资机构和半导体企业签订了合作协议。这个项目填补了国内微纳光学规模化生产的空白。舜宇光学和中微半导体等企业合作，启动了国产集成电路设备在光学领域的在地协作。这个合作包括碳化硅衬底材料在内的新材料应用场景。韦尔斯蒂格认为，中国追赶ASML的DUV光刻机技术需要更多的时间。国内干式设备已经起步，浸润式还在攻克关键子系统。2025年7月14日的协议主要涉及技术共享和应用场景对接。ASML的专利覆盖了光刻机全流程，蔡司镜组的反射率优化和畸变校正算法都受到保护。国内企业虽然资金和人才充足，但实际验证数据还需要时间积累。这些合作把资本、技术和场景优势结合在一起，确保了产业链的自主化发展。中国的光刻机在成熟制程领域的应用越来越广泛。舜宇光学子公司正在通过项目积累经验。未来五年内技术差距肯定会缩小，但要完全对标ASML最新水平还需要持续投入资金和时间。ASML其他对华业务还能继续进行，但整体营收占比有所下降。这个过程中政府和企业都在努力推动国产化进程。韦尔斯蒂格的判断是基于实际验证数据需要慢慢积累这一事实做出的。关键光学产业链连接越来越紧密设计制造到应用的闭环初步形成了产业进展就照着原来的节奏走一步一个脚印地推进下去。