聚焦光电融合发展 四家标杆企业亮相慕尼黑上海光博会半导体展示区

(问题)算力需求持续增长、数据中心扩容、光通信升级以及智能驾驶加速落地的共同带动下,光电与半导体的融合创新正在提速。但产业仍面临几类共性挑战:一是高端设计工具、制造工艺与封装协同链条较长,验证成本高;二是从实验室走向规模量产,存在“工艺—良率—封装—应用”的系统性门槛;三是光电系统与芯片系统在标准、接口和测试评估体系上仍待继续打通。如何在更大范围内实现技术展示、供需对接与跨界协同,成为推动产业持续发展的现实问题。 (原因)这些问题的出现,既源于技术快速演进,也与产业结构变化有关。一上,Chiplet异构集成、2.5D/3D先进封装、硅光与氮化硅平台等路线迭代加快,对EDA工具链、工艺平台及封装测试提出更高要求;另一方面,高速互连、低功耗与小型化需求愈发突出,传统“单点优化”难以满足系统级性能与可靠性目标,行业需要更高效率的协同创新平台,以及可验证、可复制的工程化方案。 (影响)因此,2026年慕尼黑上海光博会聚焦光电子器件、光模块、半导体材料等核心领域,叠加展会的国际化资源与产业集聚效应,为技术交流与产业合作提供重要窗口。半导体行业观察联合承办半导体展示区(N2-2830),以27平方米专区组织四家企业集中参展,旨提升国产半导体与光电产业链的对接效率,推动先进封装、硅光集成、芯片设计等关键环节在同一场景下形成“展示—交流—验证—合作”的闭环。业内人士认为,这类集成式展示平台有助于提升供需匹配效率,推动上下游围绕产品定义、工程验证与交付能力建立更稳定的协作机制。 (对策)专区参展企业将围绕细分赛道展示阶段性成果,更突出工程化与产业化落地。其中,珠海硅芯科技聚焦2.5D/3D堆叠芯片后端设计全流程EDA,面向Chiplet异构集成与先进封装需求,展示覆盖系统级架构设计、物理实现、多芯粒测试容错、分析仿真与集成验证等环节的整体方案,以缓解芯片集成中的信号完整性、热可靠性等工程难题。国科光芯(海宁)作为国家级专精特新“小巨人”企业,围绕氮化硅硅光技术与量产平台能力,展示高速数通Si/SiN Tx-PIC、宽调谐窄线宽激光器、FMCW激光雷达光引擎等产品方向,面向数据中心、5G通信与自动驾驶等应用场景。上海朗矽科技聚焦硅基无源器件,推进“硅基平台集成无源器件”路径,其3D硅电容在容值密度、高频性能与温度适应性诸上取得突破,寿命可达传统陶瓷电容的20倍以上,面向AI算力芯片、高速光模块与射频前端等领域的可靠性需求。深圳市光鉴科技将携相关技术与产品参展,参与产业交流与合作对接。 (前景)展会平台的价值不仅在于集中展示,也在于推动跨界协同从“概念联动”走向“工程共创”。随着高速互连与光电共封装等方向持续升温,未来竞争将更强调系统级设计能力、量产一致性与供应链韧性。业内预计,围绕硅光平台、先进封装、无源器件与测试验证等关键环节的协作将进一步加深,产业生态将从单点突破转向“工具链—工艺平台—封装测试—应用场景”的整体优化。通过展会促成的项目对接与联合开发,有望推动更多国产技术进入规模化应用,并在全球光电与半导体产业分工中争取更大空间。

半导体产业的创新不仅取决于关键技术突破,也离不开产业链的合力推进。本次展会集中呈现的阶段性成果,说明了国内企业在涉及的领域的研发与工程化能力。面向未来,坚持自主创新与开放合作并行,才能在全球产业格局调整中增强主动权,为高水平科技自立自强提供支撑。