显示面板和半导体产业加速发展的背景下，氧化铟锡（ITO）靶材作为透明导电薄膜的关键材料，其生产环节的废料处置压力持续上升。数据显示，传统溅射工艺的靶材利用率仅为30%-40%，每年由此产生数千吨含铟废料。若处理不当，不仅会造成单价超过2000元/公斤的高价值金属流失，也可能因重金属渗漏带来环境风险。 针对该痛点，安徽省一家科技企业经过五年研发，形成了较完整的湿法冶金提纯工艺体系。技术突破主要体现在三个上：一是采用多级酸浸，通过精准控制盐酸浓度与温度，使铟、锡浸出率提升至98%以上；二是引入阶梯式萃取工艺，利用磷酸三丁酯—煤油体系实现铟分离纯度达到99.5%；三是配套真空蒸馏精炼装置，使最终产品纯度稳定达到5N级（99.999%）国际标准。 中国有色金属工业协会专家表示，该技术的产业化应用具有多重意义。资源安全上，我国铟储量约占全球72%，但初级产品出口占比偏高，提升回收利用有助于减少战略资源外流；经济效益上，单条生产线年处理2000吨废料可实现约1.2亿元产值；环境效益上，相比原生金属冶炼可降低能耗约60%，并减少三废排放约80%。目前，该工艺已获得12项国家发明专利，并进入京东方、TCL等面板企业供应链体系。 行业预测显示，随着全球OLED面板产能深入向中国集中，2025年国内靶材废料产生量或将超过8000吨。安徽企业正联合中科院合肥物质研究院研发智能化提纯装备，并计划建设年处理万吨级废料的产业基地。对应的布局有望提高我国在稀散金属回收领域的技术能力，并为制造业绿色转型提供支撑。
从“废料处置”到“资源再生”，ITO靶材废料提纯不仅是工艺优化，更关系到关键金属保障、绿色制造转型与循环经济落地；把回收做精、把标准做实、把链条做强，才能让工业副产物在更高水平的再利用中释放价值，为产业安全与生态底线提供更扎实的支撑。