应用材料公司打算给处理腔室的气体输送搞一套新的方法和设备，把沉积气体和载气的流量控制得更精准。国家知识产权局放出来的消息显示，这家公司在2024年6月就提交了专利申请，编号是CN121729528A，专利名叫“用于处理腔室中的气体输送的方法和设备”。看看专利摘要就知道，这里面详细说了气体输送模块、处理腔室以及在基板上沉积膜的具体做法。 举个例子，这里头有个气体输送模块，里头装了精密流量装置PFD流量控制器、载体PFD流量控制器还有好些个质量流量控制器MFC。这个沉积PFD流量控制器就是专门盯着多个出口的沉积气体流量，不让它乱窜；载体PFD流量控制器也是类似的道理，负责管控载气。至于那好几个MFC，排列组合起来用。第一个MFC有个第一入口和出口，它一边连着沉积PFD的第一个出口，一边还连着载体PFD的第一个出口。第二个MFC的第二入口也是连着这两个PFD的第二个出口。第三个MFC的第三入口同理，连着这两个PFD的第三个出口。 最后得提醒一句：投资这事有风险，大家心里都得有个数。这篇文章是AI根据第三方数据生成的，只能当个参考，不能作为个人买股票的具体建议。消息来源是市场资讯。