荷兰Insinger Gilissen公司的分析师Jos Versteeg在2025年10月接受采访时说，中国要想追赶上ASML在DUV光刻机领域的最新水平，至少需要五年的时间。而且这仅仅是勉强追上。这个观点在半导体圈引起了热议。2024年的时候，ASML在中国的营收占比超过36%，但2025年的出口管制导致这一比例下降到了20%左右。ASML的前CEO彼得·温宁克认为，美国对中国的半导体出口管制更多是基于意识形态而不是市场数据。他表示这次限制和当年对日本的半导体贸易战有本质区别。 中国工信部在2024年9月将国产氟化氩干式光刻机列入了重大装备推广目录。这种干式光刻机的分辨率达到65纳米以下，套刻精度在8纳米以内，已经进入了成熟制程芯片的生产阶段。相对于浸润式DUV光刻机来说，干式设备不用处理液体介质控制问题，但精度验证依然需要反复进行。 舜宇光学的子公司舜宇奥来于2025年7月14日在上海临港基地举行了首台核心设备的进厂仪式，并与国有投资机构和半导体企业签订了合作协议。这次合作旨在推动集成电路光学部件的协同发展，填补国内微纳光学规模化生产的空白。同时还涉及人工智能设备制造等领域。 浸液式DUV光刻机技术复杂，涉及液体注入、对准系统、多重曝光等多个环节。光源稳定性和工作台精度直接决定成像效果。蔡司公司主导的光学镜组积累了1500多项专利，其多层镀膜工艺要求极高。 尽管国内企业已经开始攻坚浸润式DUV光刻机技术，但还需要时间来积累实际验证数据。韦尔斯蒂格也认为追赶周期难以缩短多少。国内企业正在逐步推进设备自给自足，成熟制程领域的应用范围也在扩大。 尽管ASML中国营收下降明显，但是国内的项目仍然稳步推进。舜宇光学与中微半导体等企业合作开发国产集成电路设备在光学领域的应用场景，并且加入了碳化硅衬底材料等新材料应用场景。 这次合作把资本、技术、场景优势聚集在一起，以防止单一环节被卡脖子。未来五年技术差距肯定会缩小，但要完全对标ASML最新DUV水平还需要持续投入时间和资金。 尽管管制条例给交付计划带来了变化，并且中国大陆工厂被列入更多限制清单中，但ASML其他对华业务还在继续进行。 总体来说，国内半导体产业链转向设备自给自足，成熟制程领域的应用范围也在扩大。关键光学产业链连接越来越紧密，设计制造到应用的闭环初步形成了。 韦尔斯蒂格继续评估市场动态，而温宁克也在观察行业趋势。这次限制不会动摇ASML在全球市场的地位。